UV鏡40.5mm

反射膜是用于把入射光能量大部分或幾乎全部反射的光學(xué)元件。在有些光學(xué)系統(tǒng)中，要求光學(xué)元件具有較高的反射本領(lǐng)，例如，激光器的反射鏡要求對(duì)某種頻率的單色光的反射率在90％以上。為了增強(qiáng)反射能量，常在玻璃表面鍍一層高反射率的透明薄膜，利用其上下表面反射光的光程差滿(mǎn)足干涉相長(zhǎng)的條件，使反射光增強(qiáng)。 　　

金屬膜有很高的反射率，吸收率也較高，而介質(zhì)膜的不但反射率可以較高，還有較小的吸收率。 　　

鋁是唯一從紫外到紅外(0.2～30μm)具有很高反射率的材料。大約在波長(zhǎng)0.85μm處反射率出現(xiàn)一極小值，其值為86%。鋁膜對(duì)基板的附著力比較強(qiáng)、機(jī)械強(qiáng)度和化學(xué)穩(wěn)定性也比較好，所以廣泛用作反射膜。新沉積的鋁膜暴露于常溫大氣后，表面立即形成一層非晶的高透明的Al2O3膜，短時(shí)間內(nèi)氧化物迅速生長(zhǎng)到15～20.，然后緩慢生長(zhǎng)，一個(gè)月后達(dá)到50左右。對(duì)緩慢蒸發(fā)的鋁膜，氧化物的厚度可以達(dá)到90.以上。氧化物的存在使鋁膜的反射率下降，特別是波長(zhǎng)小于200nm的區(qū)域，為此要用MgF2膜作保護(hù)層。在可見(jiàn)光區(qū)，通常用SiO作為初始材料，蒸發(fā)得到硅的氧化物薄膜作為Al膜的保護(hù)膜。最佳的制備鋁膜的條件：高純鋁(99.99%)；高真空中快速蒸發(fā)(50～100nm/s)；基板溫度低于50℃。 　

　在可見(jiàn)光及紅外波段內(nèi)，銀膜的反射率是所有已知材料中最高的。在可見(jiàn)光區(qū)和紅外區(qū)，反射率分別達(dá)到95%和99%左右。但是，銀膜的附著力差，機(jī)械強(qiáng)度和化學(xué)穩(wěn)定性差，所以主要用于短期使用的零件。銀膜在紫外區(qū)的反射率很低，在波長(zhǎng)400nm開(kāi)始下降，到320nm附近降到4%左右。當(dāng)銀膜暴露于空氣中時(shí)反射率會(huì)逐漸降低，主要原因是表面形成的氧化銀(AgO、Ag2O3)和硫化銀，因此要在銀膜上鍍保護(hù)膜。最佳的制備工藝與鋁的相似，即高真空、快速蒸發(fā)、低的基板溫度。 　

　降低薄膜反射率的一個(gè)重要因素是散射。造成散射損耗的原因是多種多樣的，薄膜的成核和生長(zhǎng)機(jī)理引起膜層微觀(guān)結(jié)構(gòu)的不均勻，從而會(huì)產(chǎn)生散射，借助于電子顯微鏡觀(guān)察多層膜斷面的微觀(guān)結(jié)構(gòu)，其呈現(xiàn)非常明顯的柱狀，膜層內(nèi)部充滿(mǎn)空隙，而面變得凹凸不平。此外，基片表面的粗糙度及其缺陷，還有蒸發(fā)源噴濺的粒子、膜層中的微塵、裂紋和針孔等因素相互交叉構(gòu)成復(fù)雜的散射模型?？偟膩?lái)說(shuō)我們可以把散射歸結(jié)為二類(lèi)，即體積散射和表面散射。